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超高真空脉冲激光沉积镀膜系统

一、系统的主要组成及技术指标  系统由真空腔室(外延室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。  1、★★外延室:  极限真空优于:5.0x10-8Pa  真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S  1.1、★真空室组件:1套  真空室采用球形结构,尺寸:Ф450mm;选用0Cr18Ni9Ti不锈钢材料制  造,氩弧焊接,表面喷玻璃丸

所属分类:

脉冲激光沉积镀膜机


产品描述

  一、 系统的主要组成及技术指标

  系统由真空腔室(外延室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。

  1、 ★★外延室:

  极限真空优于:5.0x10-8Pa

  真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S

  1.1、 ★真空室组件:1套

  真空室采用球形结构,尺寸:Ф450mm;选用0Cr18Ni9Ti不锈钢材料制

  造,氩弧焊接,表面喷玻璃丸及电化学抛光处理,全部接口采用金属垫圈密

  封,腔体上各种法兰接口如下:

  1.1.1 、CF250接口法兰1个(接升华泵);

  1.1.2 、CF200接口法兰1个(接靶组件);

  1.1.3 、CF150接口法兰4个(接样品台组件、分子泵、离子泵、活开门

  组);

  1.1.4 、CF100接口法兰7个(接2个激光入射窗口、高能电子衍射电子

  枪、荧光屏 口、进样室口、2个光谱口);

  1.1.5 、CF50接口法兰5个(2个观察窗口、1个红外测温窗口、2个备用);

  1.1.6 、CF35接口法兰5个(接规管、放电电极、2个备用);

  1.1.7 、CF16接口法兰6个(低真空规管、放电电极、进气管路、充气阀、 照明、备用;

  1.2 、★旋转靶台组件:1套

  1.2.1、CF200密封法兰,靶与样品之间距离可调30~90mm(腔外调节);

  1.2.2、靶组件为垂直结构,靶材最大尺寸Φ70mm, 每次可以装四块靶材;提供可安装直径分别为Φ25mm、Φ30mm、Φ50mm、Φ70mm靶材的靶材架各四套。

  1.2.3、每块靶材可实现自转,磁力耦合传动,转速5~60转/分,连续可调,电机驱动;

  1.2.4、公转换靶采用波纹管转轴驱动,由电机控制;

  1.2.5、靶的定位与靶距调节均采用光电开关定位,靶组件的中心位置定在前方靶面与基片的距离为60mm的位置,为了保证靶定位精度,采用细分驱动器控制电机;

  1.3、 ★基片加热台组件:1套

  1.3.1、 基片尺寸:提供安装1*1cm方形基片的基片架六套;Φ25和Φ51圆形基片的基片架各两套。

  1.3.2、★★采用抗氧化材料作加热器;基片加热最高温度 800°C±1°C,由热电偶闭环反馈控制;基片温度误差小于±1°C;基片温度从中心到边沿的偏差小于±1°C。

  1.3.3、 基片台可以作前后手动移动,采用波纹管密封结构,基片以RHEED的位置为准可拉出30mm,缩进20mm;

  1.3.4、 基片可连续回转,转速5~60转/分,电机驱动;

  1.3.5 、样品挡板组件;

  1.4、★窗口及法兰盲板组件

  1.4.1 、供准分子激光入射用的石英玻璃窗口(选用JGS1-1型石英玻璃):6个

  1.4.2 、观察用玻璃窗CF50:2个

  1.4.3 、红外测温窗CF50:1个

  1.4.4 、CF35盲法兰:1个

  1.4.5 、CF50盲法兰:2个

  1.5、 ★活开门组件:1套

  1.5.1、 上焊接Ф50mm 通导窗口;

  1.5.2、 采用胶圈,金属两用密封结构;

  1.6、 ★工作气路组件:3条

  1.6.1、质量流量控制器、DG16角阀、管路、接头等:2路

  质量流量计范围:1--100SCCM(厂家:北京汇博隆)。

  1.6.2、CF16角阀、管路、接头 :1路

  1.7、★工作真空获得:机械泵+分子泵+离子泵+升华泵

  1.7.1、抽速:8升/秒,2XZ-8直连机械泵:1台

  1.7.2、抽速:620升/秒,分子泵及控制电源:1台

  1.7.3、抽速:400升/秒,溅射离子泵及控制电源:1台

  1.7.4、钛钼丝升华泵及控制电源:1台

  1.7.5、CC-150-B闸板阀:2台

  分别用于分子泵与外延室隔离,离子泵与真空室隔离。

  1.7.6、CC-100-B闸板阀:1台

  进样室与外延室隔离。

  1.7.7、分子泵与机械泵软联接金属软管:1套

  1.7.8、电磁隔断放气阀:DN40:1台

  1.8、★★真空测量

  1.8.1、DL-7型超高真空测量规、计:1套

  测量范围:1.0x10-2Pa~1.0x10-8Pa;

  1.8.2、ZDF复合真空计测量低真空:1套

  测量范围:1.0x105Pa~1.0x10-1Pa;

  2、进样室:

  极限真空优于:1.0x10-5Pa;

  真空漏率小于5.0x10-8Pa.l/S;

  2.1、 ★真空室组件:1套

  真空室腔体尺寸Ф150x150mm,上面开有连接样品传输杆、真空泵、活开

  门、真空规、放气阀等各种规格的法兰接口,选用0Cr18Ni9Ti不锈钢材料制

  造,氩弧焊接,表面喷玻璃丸及电化学抛光处理。

  2.2、★★真空部件

  2.2.1、 磁力样品传送杆,传送距离700mm:1套

  2.2.1、 压力表,放在进气阀门外:1套

  2.2.1、 观察窗组件:1套

  2.3、★★工作真空获得:机械泵+分子泵

  2.3.1、直联机械泵:1台(抽速4升/秒);

  2.3.2、复合分子泵及变频控制电源:1台(抽速600升/秒);

  2.3.3、分子泵与机械泵软联接金属软管:1套 ;

  2.3.4、CF150-B闸板阀:1台(用于分子泵与样品引进室隔离);

  2.3.5、ZDF量程高真空测量规、计:1套(用外延室真空计的另外两路)

  低真空规:1套(1.0x105Pa~1.0x10-1Pa);

  电离规:1套(1.0x10-1Pa~1.0x10-5Pa);

  2.3.6、高真空角阀CF16、管路、接头、充气阀D6等:1路(解除真空充氮气);

  2.3.7、KF25电磁压差阀:1台;

  2.3.8、KF40电磁截止阀:1台;

  2.4、相关规格的金属密封铜圈,氟橡胶密封圈:全套

  2.5、不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等: 全套

  3、 ★安装机台架组件:1套

  安装台架:整个设备安放在一个用型钢焊接而成的台架上,台面板由不锈钢蒙皮装饰,台架及围板均进行喷塑处理。机台有移动/固定脚轮两用。

  4、 ★电源控制系统 :1套

  自制电源

  4.1、总控制电源:1套

  4.2、电源控制机柜:2台

  4.3、样品加热电源:1台

  4.4、卤钨灯照明电源 :1台

  4.5、步进电机旋转电源:4套

  4.6、升华泵电源:1套

  4.7、机械泵启动控制电源:2套

  外配套电源

  4.8、3L-400离子泵电源:1套

  4.9、FB620分子泵电源:2套

  4.10、电离真空计电源:2套

  4.11、质量流量计电源(2显):1套

  5、★备品备件:1套

  5.1、无氧铜密封垫圈(相关规格)

  CF16:5个; CF35:5个;

  CF50:5个; CF100:3个; CF150:5个

  Ф6mm:卡套:4套Ф6mm:不锈钢管:6米

  5.2、氟橡胶密封圈

  Ф150 3个 Ф100 3个

  5.3、烘烤带: 4条

  5.4、点钨灯: 5个

  5.5、加热丝: 3米

  6、★配套仪器及控制系统

  1)、★★差分式高能电子衍射仪(RHEED): 1套

  (1)、高能电源:最高能量25KV,最大束流100μA。

  (2)、三极溅射离子泵(抽速:25升/秒)及阀门、管道:1套

  (3)、荧光屏:1快

  (4)、荧光屏挡板:1套

  (5)、照像用黑筒:1套

  2)、★★RHEED强度振荡,生长速率监测系统 : 1套

  主要由摄象头,硬件,计算机控制软件包等组成。

  3)、★★激光束扫描装置 : 1套

  (1)、二维扫描机械平台。

  (2)、手动/自动,两套步进电机控制,执行两自由度扫描。

  4)、★★氧等离子体发生器及电源 : 1套

  5)、计算机控制系统 : 1套

  (1)、由硬件卡,计算机控制软件包,及计算机组成。

  (2)、控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫描等。

  6)、★★四极质谱仪(质量数:1---100): 1套

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