一．设备说明

 

1  真空系统    

1.1  真空室由SUS304不锈钢制成，内部尺寸大致为500mm*550mm*550mm，装有基础结构和挡板的固定装置，以及电极、真空泵、样品盘离合等装置。

1.2  真空室内部电解抛光处理，减少表面放气。

1.3  真空室有两个可以完全打开的门，前面的是推拉门，配备1个观察窗，可以接附加的手套箱。后门是折页门，打开后门可以对腔体内部进行维护，也可以展开让腔体内部接触大气，配置1个观察窗。

1.4  极限真空度：系统洁净、空置时低于4×10^-5 Pa；从常压到5*10-4pa不超过25min（充氮气保护，从手套箱内操作）。

1.5  带有旁抽系统，可以在不关闭分子泵的条件下，进行样品及材料的更换。

1.6  观察窗上配有可金属挡板,可从腔体外面打开或关闭。

1.7  装有一盏OLED照明灯，方便观察内部状况。

1.8  腔体内表面预留安装金属防污挡板接口，可安装金属防污挡板来防污染。

1.9  真空系统包括如下构件：

FF-200/1200分子泵，水冷，排气速度:1200L/s；极限真空：3*10-6pa。。

    @复合真空计，测量范围大气----1.0*10-5Pa

@机械真空泵 抽速约为：15 m3/h.;

@插板阀及角阀：可使用不少于100,00次，气动。

@电磁充气阀：流量可调节。

 

 

2  样品架系统

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2.1 标准的样品架夹具可以固定1个100mm x 100 mm（有效蒸镀面积）的基片托。

2.2 基片托可以容纳25个15mm*15mm的基片（或者其它客户指定尺寸），基片托下方有固定的掩膜板（根据客户要求制作），尺寸公差±0.05mm，可以对20个基片进行蒸镀。

2.3 基片托通过电机以标称30转数／分的转速旋转时发生沉淀（0~30转/分可调），这样可以使基础结构的一致性达到最大。

2.4 掩膜板到基片的距离小于0.2mm.

2.5 靠近基片盘附件有水冷装置。

2.6 在基片掩模盘装置下提1个挡板（气缸控制）。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3 蒸发源

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3.1 有6组热阻蒸发源，用于材料蒸发。有机、金属通用，距基片大约30cm。6个蒸发源的位置按照圆心均匀分布。

3.2 源与源之间配备隔板，可有效隔绝一定的温度，并避免源与源之间相互污染。

3.3 通过低电压大电流的蒸发电源切蒸发不同材料。

3.4  蒸发电源，最高升温温度可达1500℃，电流驱动加热形式，可精确到0.1A，实现蒸镀速率0.01 A/S的精度显示。有机源可加热到650℃。

 

 

4  膜厚控制

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4.1 带有2个晶振探头，基片盘下方两侧。

4.2 采用国产2通道膜厚仪，膜厚显示精度在±0.01A/S。。

4.4 可蒸金属：以铝为标准。蒸镀速率：以铝为标准：0.5-10A/s稳定可控，蒸镀速率波动≤±0.1A/S。

4.5 基片厚度均匀性：±5%,测试方法：多点测量：（最大值-最小值）/（最大值+最小值）,单片尺寸：不大于100*100mm。

4.6 有机物：以NPB或Alq3为标准： 蒸镀速率0.5-10A/s稳定可控，蒸镀速率波动≤±0.1A/S。

47  基片厚度均匀性：±5%,测试方法：多点测量：（最大值-最小值）/（最大值+最小值）,单片尺寸：不大于100*100mm。

4.8 掩膜版系统：蒸镀图案边缘宽度：掩模板图案尺寸±0.1mm:

 

 

 

 

 

 

 

5   电控系统及其他

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控制软件

真空系统通过触摸屏控制机械泵、气动阀、闸板阀、分子泵的启动和停止，之间包含互锁确保设备的安全。

支撑支架

不锈钢框架上装有真空室，真空构件，电控，操作界面。框架和盖板的饰面为不锈钢，非无尘室同样适用。框架配有水准调节脚。

 

二、设备配置表

序号	产品名称	制造场商	规格型号及技术参数	数量	单位
1	蒸发室
1·1	蒸发室腔体	浅蓝纳米	500X500X550mm，漏率优于1*10-10pa*m3/S。	1	台
1·2	挡板观察窗	浅蓝纳米	DF180，手动.	1	只
1·3	样品台	浅蓝纳米	旋转0～20转/分,样品尺寸最大为100*100MM向下兼容15*15毫米25块小片，有水冷功能。蒸发固定间距300mm。	1	台
1·4	样品架挡板	浅蓝纳米	气动， 遮挡100*100mm基片位置	1	套
1·5	蒸发台	浅蓝纳米	电极2组，最大电流200A；有机源4只。	1	套
1·6	源挡板	浅蓝纳米	气动，保护蒸发源不被污染	4	套
1·7	照明系统	浅蓝纳米	OLED.	1	套
1·8	机械泵	KYKY	抽速，8L,极限真空：9.3 x 10-2mbar.	1	台
1·9	涡轮分子泵	国产	1200L.排气速度1200L/s	1	套
1·10	插板阀	KYKY	DN200,气动，使用不少于10,000次,漏率优于1*10-11pa*m3/S	1	只
1·11	角阀	浅蓝纳米	CF35气动，使用不少于10,000次 极限真空1*10-6pa	1	只
1·12	前级阀	浅蓝纳米	KF40，气动，使用不少于10,000次 极限真空1*10-6pa	1	只
1·13	充气气阀	浅蓝纳米	CF16-Ø10，气动	1	只
1·14	波纹管路	浅蓝纳米	KF40	3	只
1.15	水冷探头	浅蓝纳米	Cf35，误差0.01A/S	3	只
2	电控系统	浅蓝纳米
2·1	电控机架	浅蓝纳米	1.8米	1	台
2·2	控制系统	浅蓝纳米	触摸屏10寸+PLC，控制前级，机械泵，分子泵，自动抽真空，自动停机，样品台旋转控制。蒸发源挡板，设备安全报警。	1	套
2·3	复合真空计	成都正华	ZDF-5227，大气-1.0E-5PA	1	台
2·4	金属电源	浅蓝纳米	5V，200A，电流精确到0. 1A,	1	台
2·5	有机电源	浅蓝纳米	有机源加热650°，精度0.1度	1	台
2·6	分子泵电源	北京		1	台
2.7	膜厚显示仪	国产2通道	2通道,0.01 A/S的精度显示	1	台
3	其他费用				1
3.1	铜垫,胶圈,标准件.气泵，气泵			1
3.2	安装调试费			1
3.3	设备包装材料人工费			1
3.4	设备运输与保险费			1

 

 

三,设备验收标准

 

1：外观：

整机外观无明显划痕，脏污

说明书，合格证齐全

电线，水管，抽气管道布局整齐，标识清楚

2．真空系统：

极限真空:优于4*10-5Pa；

从大气抽至5.0*10-4Pa,时间小于15分钟(腔内充氮气，从手套箱内操作)；

保压：12小时升压<5Pa;

3．样品架：

   可安装基片尺寸：100*100mm公差负0.1mm；

基片数量：15mm*15mm 最多20片

4．蒸镀系统：

金属源：坩埚容量1-2CC，速率稳定性:以铝、镁、银为标准：0.5-10A/S范围内±0.1A/S。

膜厚均匀性：厚度均匀性误差：<±5%,测试方法：多片测量：（最大值-最小值）/（最大值+最小值）,单片尺寸：100*100mm

 

有机源：坩埚容量1-2CC，速率稳定性:以NPB、Alq3为标准：1-5A/S范围内±0.1A/S。

膜厚均匀性：厚度均匀性误差：<±5%,测试方法：多片测量：（最大值-最小值）/（最大值+最小值）,单片尺寸：100*100mm。

@掩膜版系统：蒸镀图案边缘宽度：掩模板图案尺寸±0.1mm

 

 

四、现场安装具备的条件

• 1、实验室要有三相电：380VAC，50Hz，三相四线制；三相输入总功率约 10 KW；至少有 1个25A四极插座（供电回路具有过载保护措施），三火一零，或者有 1 个 15A 三相空气开关。
• 2、实验室要有单相电：输入功率约 2 KW；至少有  1 个220V 10安培插座或空开；
• 3、实验室电压波动范围：小于±10％；
• 4、实验室要有独立可靠地线，对地电阻应小于2欧姆。
• 5、设备实验室要有循环水（建议有水路过滤装置）；水温要低于25度，水压2-2.5kg/

平方厘米，及回水通道。设备总进出水管为6分水管（水管内径φ25mm）。

• 6、实验室要有普通氮气，压强在2-3个大气压之间；备齐设备需要的氩气源、减压阀适用氮、氧、氩即可；
• 7、实验室准备的所有气瓶压力表上的输出端应为φ6卡套接头，以便设备能接上气源。
• 8、实验室要有外排废气管道：排气管为内径φ25X外径φ33的塑料管，
• 9、设备需要压缩空气，实验室要有压缩空气，0.6-0.8MPa，并配φ6卡套接头，给系统的气动元件提供动力气体用。
• 10、实验室环境洁净度优于10万级。
• 11、实验室要求安装场地的温度：10℃～30℃，相对湿度：不大于75 。

12. 实验室设备周围环境整洁，空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件

表面腐或引起金属间导电的尘埃或气体存在。

13. 需要您准备电器维护常用的工具，比如：万用表等。

 

四、技术服务及质量保证

1. 、按ISO9001质量管理体系组织设计、加工、装调、检验、包装、运输；
2. 、提供该设备的技术使用说明书及外购配件仪器仪表说明书；
3. 、在甲方现场验收后，一年内免费维修正常使用出现的故障，非正常的故障维修只核收工本费，终身维修只核收工本费；

五、培训

1、培训时间：2～3天

 

2、培训内容及要求：

1. 了解设备的工作原理、组成及各部组件、控制系统的工作原理和使用方法；
2. 熟练掌握整套系统的操作规程；
3. 能够对设备的一般故障进行诊断和简单维修，进行易损件的更换；
4. 对设备能够进行日常维护.