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PE-ALD镀膜机与CVD一体机

PE-ALD等离子体增强原子层沉积系统是专门为特殊应用领域的科学研究与工业开发用户而设计的单片沉积系统,系统电气完全符合CE标准;该系统扩展了普通原子层沉积系统对前驱体源的选择范围、提高薄膜沉积速率和降低沉积温度,广泛应用于对温度敏感材料和柔性衬底上薄膜的沉积。

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