北京维意真空技术应用有限责任公司
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设备集成 Equipment integration
磁控溅射用靶枪
MST系列平面磁控溅射靶，采用 MAXWELL 仿真技术对磁场分布、磁路、水路及电场进行优化设计。大幅度的提高了靶材利用率、功率密度和溅射效率。广泛用于金属和非金属的磁控溅射镀膜设备中。并具有如下独特功能： ● 高靶材利用率和高溅射率；通过磁场和结结设计，兼顾溅射效率的前提下，将利用率做到 35%以上；溅射率>100nm/min(两英寸靶，铜靶材) ● 高功率密度及高散热率；采用独创的冷却水路及导热结构设计，提高热传递效率，功率密度可以达到15W/c㎡以上（冷却水压>0.3MPa）。
所属分类：
磁控溅射镀膜机
产品描述
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