北京维意真空技术应用有限责任公司
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09-14
销售工程师
2021-09-15
08-09
前驱体源路数 标准3路前驱体管路,1路吹扫管路;
MEMS的高均匀镀膜,纳米多孔结构镀膜,特种光纤掺杂,太阳能电池
反应腔室、设备管路、前驱体源瓶均采用316L不锈钢制作完成;
真正的实现了系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警
控制部分采用PC机远程控制,PLC和触摸屏本地操控,真正的实现了系统集工艺配方
此次交付的TALD原子层沉积镀膜设备是全套联合自主研发的产品:
该系统电气符合CE标准,广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜、太阳能电池等领域。
TALD原子层沉积系统是专门为科研和工业小型化量产用户而设计的多片沉积系统