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深圳大学原子层沉积镀膜设备通过验收
发布时间：
2017-11-13 20:23
来源：
2017年11月13日，北京维意真空技术应用有限责任公司完成了向深圳大学交付原子层沉积镀膜设备的工作。
T-ALD原子层沉积系统是专门为科研和工业小型化量产用户而设计的多片沉积系统。该系统电气完全符合CE标准，广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜、太阳能电池等领域。
先进的软件控制系统：系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报状态监控等功能于一体。
可达到的技术指标：
基片尺寸 12英寸及以下尺寸
基片加热温度 室温~300℃
前驱体源路数 标准3路前驱体管路，可选配
前驱体管路温度 室温～200℃，控制精度±0.1℃
源瓶加热温度 室温～200℃，控制精度±0.1℃
ALD阀 Swagelok快速高温ALD专用阀
本底真空 <5x10-3Torr，进口防腐泵
载气系统 N2或者Ar
长模式 连续和停留沉积模式任意选择
控制系统 PLC+触摸屏或者显示器
电源 50-60Hz，220V/20A交流电源
沉积非均匀性 非均匀性<±1%
设备尺寸 600mm x 600mm x 1100mm
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