纳米科技 Nano technology


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连续镀膜PE-CVD镀膜设备

快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉,它由三温区管式炉,三路质量流量计气路系统,真空机组,RF射频电源模块,异形石英管,风冷装置,收放铜箔的密封装置组成,每一个部件都可以CVD管式炉的炉管两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室(即收放铜箔的密封装置),收放铜箔的密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮,进料进气真空腔室与炉体之间安装有射频等离子体发生器,所述出料排气腔体与炉体之间

所属分类:

等离子体增强化学气象沉积设备


产品描述

  快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉,它由三温区管式炉,三路质量流量计气路系统,真空机组,RF射频电源模块,异形石英管,风冷装置,收放铜箔的密封装置组成,每一个部件都可以CVD管式炉的炉管两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室(即收放铜箔的密封装置),收放铜箔的密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮,进料进气真空腔室与炉体之间安装有射频等离子体发生器,所述出料排气腔体与炉体之间安装有风冷装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点,可以进行大面积、高质量石墨烯的规模化生长。

  主要技术参数:

  额定功率:7KW

  额定电压:AC 208-240V ,50/60 Hz

  最高温度:1200℃

  持续工作温度:≤1100℃

  升温速率:≤30℃/min

  炉管尺寸:高纯石英管Φ80×1700mm

  加热区长度:200+200+200mm

  恒温区长度:400mm

  控温方式:10寸液晶屏触摸控制(模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能)

  控温精度:±1℃

  加热元件:进口电阻丝

  真空度可达10-1Pa ;

  真空泵抽速:10m³/h

  气路设计:气路系统内部装有高精度质量流量计可准确的控制气体流量;设静态混气室,有助于气体充分混合,按要求配比。

  准确度:±1.5%

  线性:±0.5~1.5%

  重复精度:±0.2%

  响应时间:气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec

  工作压差范围:0.1~0.5 MPa

  最大压力:3MPa

  接口:Φ6,1/4''

  显示:液晶屏显示

  工作环境温度:5~45高纯气体

  内外双抛不锈钢管:Φ6

  压力真空表:-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

  截止阀:Φ6

  射频信号频率:13.56MHz±0.005%W

  功率输出范围:0-500W