北京印刷学院PE-CVD 等离子体增强化学气相沉积镀膜设备通过验收

发布时间：

2016-03-30 20:35

来源：

　　2016年3月30日，北京维意真空技术应用有限责任公司完成了向北京印刷学院交付PE-CVD等离子体增强化学气相沉积镀膜设备的工作。

　　PE-CVD等离子体增强化学气相沉积镀膜设备具有固态等离子源、分开式反应气体进气系统，动态衬底温控，全面控制真空系统，采用集中现场控制总线技术的“值守精灵”控制软件，以及友好用户操作界面来操作。适用于室温至1400℃条件下进行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉积，同时可实现TEOS源沉积，SiC膜层沉积以及液态或气态源沉积其它材料，尤其适合于有机材料上高效保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。

　　PE-CVD结构介绍：

　　1、PECVD系列真空管式高温烧结炉如图所示,集控制系统与炉膛为一体;

　　2、炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用进口高温合金电阻丝为加热元件;

　　3、高纯石英管横穿于炉体中间作为的炉膛，炉管两端用不锈钢法兰密封，工件式样在管中加热，加热元件与炉管平行，均匀地分布在炉管外，有效的保证了温场的均匀性;

　　4、测温采用性能稳定，长寿命的“K”型热电偶，以提高控温的精准性;

　　5、它是专为高等院校﹑科研院所及工矿企业对金属，非金属及其它化和物材料在气氛或真空状态下进行烧结﹑融化﹑分析而研制的专用设备;

　　6、MPECVD系列真空管式炉能够快速开启，快速升降温，方便客户对特殊材料的装载，烧制和观察;

　　7、炉体的控制面板配有触摸屏，控制电源开关，配有电源和保险指示灯，以便随时观察本系统的工作状态。

　　基本功能介绍：

　　1、辉光放电：在系统20-40Pa启动射频电源可以实现辉光放电;

　　2、加热：系统可以设置30段温控程序，彩屏系统预存15条烧培曲线，针对不同的样品，设置不同的预设曲线，避免重复设置;

　　3、自动清洗功能：样品放入线圈的区域，配置好参数，系统会自动抽真空，并通入设置的气体，自动启动辉光放点;